曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光,对于空白的蚀刻钢片感光,
曝光一般在曝光机内进行,技术关键点:低温平行光源,波长根据油墨特性进行设备,目前光源是一大难点问题。利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点,采用曝光显影技术,遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
曝光显影是一种用于光刻制程的技术,主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。它包含两个阶段:曝光:在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中,使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。显影工艺一般步骤如下:图2 显影工艺步骤1.预喷淋(pre-wet):为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能,先在硅片表面喷上一点去离子水(Deionizedwater,DIW)。2.显影喷淋(developer dispense):曝光显影工艺流程说明:1. 洗版:将磁铁版放在洗版机中洗涤,消除污渍,使印版面干净、平整。2. 显影:将洗净的磁铁版放入显影机中显影,选择合适的膜粒大小,以便根据图案进行印刷。3. 曝光:使用灯光/照相机曝光,使磁铁版上的油墨凝固,形成良好...曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上,然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准,再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间,固定后进行曝光。3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术,曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光,对于空白的蚀刻钢片感光,钢片感光的油墨发生聚合反应,然后通过显影机,蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化,3C产品带热了一批设备企业,之前统计过3D玻璃热弯加工设备,今天来看看国内几家曝光显影设备的企业,目前大部分设备企业主打生产线的整合方案,涉猎这方面的设备企业队伍逐渐增大,每一家都有自己的优势,这里列举的企业名单仅仅是我们所知道的,预喷淋(pre-wet):为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能,先在硅片表面喷上一点去离子水(Deionizedwater,DIW)。