PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由代的TiN发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元复合涂层。
电镀：电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜pvd厂与您分享DLC涂层具备高硬度、高弹性模量、低摩擦系数、耐磨性和优良的真空泵固体力学特性，特别适合于耐磨损镀层。因而，根据液相堆积加工工艺得到的类金钢石镀层广泛运用于很多对耐磨性和强度有规定的零件中。DLC加工工艺溫度一般在200摄氏上下，乃至更低，能够解决绝大多数汽车零件；
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真空镀膜pvd厂与您分享PVD镀膜工艺溅射镀膜(Sputtering)
高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2Torr左右的Ar气氛中加以高电压时阴附近的Ar气离子化后变成Ar+，与阴相撞击，被Ar+离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。
溅射应用范围广，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。
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真空镀膜pvd厂与您分享PVD镀膜工艺离子镀(Ion Plating)
PVD镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行至高真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(Ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。
大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，特别是要求耐磨耗的物件。
