在应用真空镀膜加工的全过程中，要求注意下列一些难题。
1、脉冲电镀电源与电镀槽中间的间距
为了保证脉冲电流量波型引入镀槽时不崎变，且衰减系数小，期待在安裝时，脉冲电镀电源与镀槽的间距2-3m为宜，要不然对脉冲电流量波型的后沿危害很大，电镀将不可以超过预估功效。
2、阳阴极的导线衔接方法
直流稳压电源的导线衔接方法，不宜脉冲开关电源的衔接，脉冲电镀电源的輸出衔接，期待二根导线的极间电容可以相抵导线的传送电感器效用。
因此阴、阳极氧化导线有效的方法就是双绞交叉后，引送至镀槽边，随后维持脉冲波型不会改变。
3、导线的采用
因为是脉冲开关电源，为了避免趋夫效用，在导线挑选时，应挑选多芯铜芯电缆作脉冲开关电源到镀槽的衔接线，多芯铜芯电缆绞织，期间的线电容器可以相抵其电感器效用。
真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能， 供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜技术一般分为物理液相堆积技术和有机化学液相堆积技术两类。物理学液相堆积技术是指在真空泵标准下用各种物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子，立即堆积在基础表层的方式。
真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
真空镀膜加工均匀性的概念：
1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜加工均匀性。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，薄膜，如果镀膜过程不科学，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜加工的技术含量所在。
3.晶格有序度的均匀性
