8分钟前 新昌pvd金属真空镀膜服务周到 金百辰按需定制[金百辰050f8dc]内容：PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

精密冲压模具经PVD镀膜涂覆后外表可拥有极低的摩擦系数，削减加工受力。模具经纳米PVD镀膜涂覆后外表硬度可进步5到10倍，可大幅削减外表磨耗，特别是用于高精密加工时可获得十分优异的外表质量。冷冲成形及拉伸模具经纳米涂层涂覆后可明显降低摩擦力，明显削减加工中发生的刮痕及磨耗。因此可增加寿数，大幅降低出产成本。

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pvd金属真空镀膜与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以蒸发高熔点材料，如w，Mo，A1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层质量。