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抽真空系统，目前基本是两种，一种是扩散泵系统，一种是分子泵系统，分子泵系统属于清洁抽气系统，没有扩散泵的返油现象，抽速也相对比较稳定，而且比较省电，电费的支出是镀膜企业生产运营成本中很大的一环。对于泵系统的定期维护是很重要的，特别是润滑油的定期更换，注意油品牌号的选择，选择错误很容易损坏真空泵。
真空检测系统，目前基本都是用复合真空计，热偶规+电离规的组合，这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺，电离规很容易毒化，造成电离规损坏，如果镀制含有大量C元素的气体的工艺，可以考虑，配置电容薄膜规。
真空蒸发镀膜的定义
真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和EB蒸发（电子束蒸发）
真空蒸发镀膜主要过程
1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）
2.离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；
3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜
4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合
热蒸发原理及特点
热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体材料。
真空离子镀膜定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。
离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起
真空离子镀膜是真空蒸发和真空溅射镀膜结合的一种镀膜技术。离子镀的过程是在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物沉积在被镀基片表面的过程
