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真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。
真空镀膜加工的基本技能要求
1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应契合GB/T6070的规则。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管，分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时，应在丈量口处设备电场屏蔽设备。
真空镀膜加工都使用那些工艺
喷砂和阳极氧化
一般的阳极氧化喷砂是针对的铝或者铝合金的较多。砂分为粗砂和细砂，细砂的成本相对要高一点点，一般金属表面瑕疵较多的会选择喷粗砂去掩盖一部分，但是喷砂不能完全掩盖一些严重的瑕疵。细砂一般针对金属表面比较平整很小瑕疵或者没有瑕疵的。喷砂以后做氧化能给产品带来很好的质感。像我们常用的手机壳表面很多都是喷砂之后氧化的
镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤色名片。